Die auf der iCT 2026 präsentierten Ergebnisse zeigen, dass insbesondere phasen-kontrastbasierte Röntgen-Laminographie die Detektion feiner Rissnetzwerke innerhalb von MOSFET-Halbleiterchips ermöglicht, selbst wenn konventionelle µCT aufgrund geometrischer Einschränkungen oder Materialkontraste an ihre Grenzen stößt. Die korrelative Analyse mit SEM bestätigt, dass die detektierten Strukturen tatsächlich aus dem Halbleitermaterial stammen und nicht von angrenzenden Lötmaterialien verursacht werden. Damit liefert die Methode eine robuste Grundlage für zukünftige Untersuchungen von Zuverlässigkeit und Ausfallmechanismen in modernen Leistungselektroniksystemen und trägt zur Entwicklung effizienterer Prüfverfahren für Komponenten im Bereich Energie und Mobilität bei.

Im Rahmen des Interreg-Projekts PEMOWE werden fortgeschrittene zerstörungsfreie Prüfmethoden zur Analyse moderner Leistungselektronik entwickelt und demonstriert. Ein besonderer Fokus liegt auf der Untersuchung von SiC-basierten MOSFETs, die in energie- und mobilitätsrelevanten Anwendungen extremen elektrischen, thermischen und mechanischen Belastungen ausgesetzt sind. In komplexen, mehrlagigen Leiterplattenbaugruppen bleiben kritische Schadensmechanismen häufig verborgen, da Halbleiterchips, Lötverbindungen und Kupferstrukturen stark unterschiedliche Materialkontraste aufweisen. Durch die Zusammenarbeit im Konsortium wurden verschiedene Prüfmethoden kombiniert, u.a. Röntgen-Laminographie, Rasterelektronenmikroskopie (SEM) und Akustische Mikroskopie, um solche verborgenen Defekte erstmals systematisch sichtbar gemacht und analysiert werden. 

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